| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
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TF1200-PECVD型等離子增強化學(xué)氣相沉積系統
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor
Deposition) 等離子體增強化學(xué)氣相沉積法
等離子增強化學(xué)氣相沉積系統
設備介紹：
本設備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應，因而這種CVD稱(chēng)為等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
此款設備配有Plasma實(shí)現等離子增強，滑軌式設計在操作時(shí)可將實(shí)驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個(gè)快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡(jiǎn)單實(shí)用，工藝重復性好，對于石墨烯生長(cháng)工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實(shí)驗。
主要組成系統及特點(diǎn)：
本設備主要由管式加熱爐體，真空系統，質(zhì)子流量供氣系統，射頻等離子源，石英反應腔室等部件組成。
主要特點(diǎn)：
1、通過(guò)射頻電源把石英真空室內的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。
2、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。
3、可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)控制所沉積薄膜的應力大小。
4、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、*性和穩定性高。
5、廣泛應用于：各種薄膜的生長(cháng)，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無(wú)定型硅(a-Si:H) 等。
開(kāi)啟式真空管式爐技術(shù)參數 | |||||
| 石英管尺寸 | L1400mm *（根據需求選擇不同直徑的石英管作為反應室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等規格可選。） | |||
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 | ||||
測溫元件 | K型熱電偶 | ||||
加熱區長(cháng)度 | 400mm | ||||
恒溫區長(cháng)度 | 200mm | ||||
工作溫度 | ≤1100℃ | ||||
控溫模式 | 模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能 | ||||
控溫精度 | ±1℃ | ||||
升溫速率 | ≤20℃/min | ||||
電功率 | AC220V/50HZ/3KW | ||||
質(zhì)量供氣系統技術(shù)參數（根據需求選擇多路質(zhì)子流量供氣系統。有兩路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供選擇。） | |||||
| 外形尺寸 | 600x600x600mm | |||
標準量程 | 50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； | ||||
數顯壓力表測量范圍 | -0.1Mpa～0.15Mpa | ||||
極限壓力 | 3MPa | ||||
針閥 | 316不銹鋼 | ||||
截止閥 | Φ6mm 316不銹鋼針閥 | ||||
電功率 | AC220V/50HZ/20W | ||||
響應時(shí)間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec | ||||
準確度 | ±1.5% | ||||
線(xiàn)性 | ±0.5～1.5% | ||||
重復精度 | ±0.2% | ||||
接口 | Φ6,1/4'' | ||||
真空系統技術(shù)參數（根據需求選擇不同真空效果的真空系統。有DZK10-1（極限真空0.1Pa），GZK10-3（極限真空0.001Pa），以及進(jìn)口高真空機組（極限真空0.0001Pa）供選擇。） | |||||
| 外型尺寸 | 600×600×600mm | |||
工作電電壓 | 220V±10% 50~60HZ | ||||
功率 | 400W | ||||
抽氣速率 | 4Ls | ||||
極限真空 | 4X10-2Pa | ||||
實(shí)驗真空度 | 1.0X10-1Pa | ||||
容油量 | 1.1L | ||||
進(jìn)氣口口徑 | KF25 | ||||
排氣口口徑 | KF25 | ||||
轉速 | 1450rpm | ||||
射頻電源（根據需求選擇強度不同的射頻電源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射頻電源供選擇） | |||||
| 信號頻率 | 13.56 MHz±0.005% | |||
功率輸出范圍 | 5-300W 5W-500W可選 | ||||
最大反射功率 | 200W | ||||
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female | ||||
功率穩定度 | ±0.1% | ||||
諧波分量 | ≤-50dbc | ||||
供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ | ||||
整機效率 | >=70% | ||||
功率因素 | >=90% | ||||
冷卻方式 | 強制風(fēng)冷 | ||||
艾科迅部分客戶(hù)（CVD及PECVD及管式爐系列）
等離子增強化學(xué)氣相沉積系統 常見(jiàn)PECVD系統組合 1. 1200度60滑軌式微型管式爐，低真空系統，四路質(zhì)子流量供氣系統，300W射頻電源 |
TF1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300 |
2. 1200度60滑軌式管式爐，低真空系統，四路質(zhì)子流量供氣系統，500W射頻電源 |
TF1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
3. 1200度60雙溫區滑軌式管式爐，低真空系統，四路質(zhì)子流量供氣系統，500W射頻電源 |
TF1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
4. 1200度60三溫區滑軌式管式爐，低真空系統，四路質(zhì)子流量供氣系統，500W射頻電源 |
TF1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
5. 1200度60微型預熱爐，1200度60滑軌式管式爐，低真空系統，四路質(zhì)子流量供氣系統，500W射頻電源 |
TF1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 |
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大 學(xué)
西安航天165所 | 中科院生態(tài)環(huán)境所 | 中科院金屬研究所 | 中電科技集團13所 |
紹興技術(shù)監督檢測院 | 錫礦山閃星銻業(yè) | 四川新材料研究中心 | 中電科技集團49所 |
中國建筑科院研究院 | 重慶鋼鐵研究所 | 上海應用物理所 | 長(cháng)春應用化學(xué)研究所 |
山西煤炭化學(xué)研究所 | 航天推進(jìn)技術(shù)研究所 | 上海硅酸鹽研究所 | 廣州能源研究所 |
四川材料與工藝研究所 | 北方涂料工業(yè)研究設計院有限公司 | ||
科研單位
江西吉陽(yáng)集團 | 內蒙古天宇集團 | 佳英特能源材料公司 |
北京東旭集團 | 新疆慶華能源集團 | 山東通用光伏能源有限公司 |
青島韓亞重工 | 安徽天康集團 | 河北神通光電科技有限公司 |
日照華軒新能源有限公司 | 清美通達鋰能科技有限公司 | 成都登特牙科技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司 |
常州樂(lè )奧醫療科技有限公司 | 邦迪管路系統（上海）有限公司 | 溫州天球電器有限公司 |
凱銳眾成金剛石工具有限公司 | 中聯(lián)科偉達技術(shù)股份有限公司 | 三鑫重工機械設備有限公司 |
遼寧錦州金屬有限公司 | 青海新型建材工貿有限公司 | 惠州拓普金屬材料有限公司 |
AEM科技（蘇州）有限公司 | 深圳雙德先進(jìn)陶瓷有限公司 | 唐山華運鐵路交通器材有限公司 |
上海合全藥業(yè)股份有限公司 | 東莞大洲電子材料有限公司 | 慈溪大旗機械科技有限公司 |
蘇州邁眾注塑系統有限公司 | 東莞邁科科技有限公司 | 蘇州大洋精鍛有限公司 |
天津索克汽車(chē)試驗有限公司 | 蘇州太智機電有限公司 | 上海鐵高國際貿易有限公司 |
黃石滬士電子有限公司 | 株洲冶煉集團股份有限公司 | 貴州皓天光電科技有限公司 |
哈爾濱亞源電力有限公司 | 馬爾精密量?jì)x（蘇州）有限公司 | 湖南元素密碼烯高科技有限公司 |
中山翔江精密光學(xué)有限公司 | 天通控股股份有限公司 | 上海超硅半導體有限公司 |
蘇州海鉑晶體有限公司 | 晶能光電（江西）有限公司 | 唐山晶源電子有限公司 |
青島嘉星晶電科技有限公司 | 常州好利來(lái)光電科技有限公司 | 三安光電股份有限公司 |
